真空鍍膜是指在高真空的條件下利用蒸發(fā)、濺射或電離在物體表面形金屬或非金屬薄膜的一種方法。
其主要過程包括:
1.抽真空:將鍍膜室內(nèi)的空氣抽出,創(chuàng)造高真空環(huán)境,減少氣體分子對(duì)鍍膜過程的干擾。
2.鍍膜材料氣化:通過加熱、電子束轟擊等方式使鍍膜材料變成氣態(tài)原子或分子。
3.沉積:氣態(tài)的鍍膜材料在工件表面凝聚,形成均勻的薄膜。
4.冷卻:將基體和鍍膜材料冷卻至室溫,使薄膜固化
1. 物理氣相沉積(PVD)
①蒸發(fā)鍍膜:利用加熱使鍍膜材料蒸發(fā),然后在工件表面沉積。
②濺射鍍膜:通過高能離子轟擊鍍膜材料,使其濺射出來并沉積在工件表面。
③離子鍍膜:在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基底上的方法
2. 化學(xué)氣相沉積(CVD)
利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。通常需要較高的溫度和特定的氣體環(huán)境。
1. 電子工業(yè)
①半導(dǎo)體器件:在芯片制造中,真空鍍膜用于制備導(dǎo)電層、絕緣層等。
②平板顯示器:如液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的制造中,真空鍍膜用于制作電極、透明導(dǎo)電膜等。
2. 光學(xué)領(lǐng)域
①眼鏡鏡片:通過真空鍍膜可以增加鏡片的硬度、耐磨性和抗反射性能。
②光學(xué)儀器:如照相機(jī)鏡頭、望遠(yuǎn)鏡等,真空鍍膜可以提高光學(xué)元件的透過率和反射率。
3. 裝飾領(lǐng)域
①珠寶首飾:真空鍍膜可以賦予首飾更加鮮艷的顏色和獨(dú)特的光澤。
②手表:用于制作表盤和表殼的裝飾膜,提高產(chǎn)品的美觀度。
4. 機(jī)械工業(yè)
①刀具涂層:真空鍍膜的硬質(zhì)涂層可以提高刀具的硬度、耐磨性和切削性能。
②模具表面處理:增加模具的耐磨性、抗腐蝕性和脫模性能。
1.高質(zhì)量的薄膜:
真空環(huán)境下可以避免雜質(zhì)的混入,形成均勻、致密的薄膜,具有良好的性能。
2.廣泛的材料選擇
可以沉積各種金屬、合金、化合物等材料的薄膜。
3.環(huán)保節(jié)能
相比傳統(tǒng)的電鍍等表面處理技術(shù),真空鍍膜過程中不產(chǎn)生廢水、廢氣等污染物,更加環(huán)保。同時(shí),由于在真空條件下進(jìn)行,能耗相對(duì)較低。
4.多功能性
可以根據(jù)不同的需求制備具有不同功能的薄膜,如導(dǎo)電、絕緣、耐磨、耐腐蝕、裝飾等。
