真空鍍膜是指在高真空的條件下利用蒸發(fā)、濺射或電離在物體表面形金屬或非金屬薄膜的一種方法。

其主要過程包括：

1.抽真空：將鍍膜室內(nèi)的空氣抽出，創(chuàng)造高真空環(huán)境，減少氣體分子對(duì)鍍膜過程的干擾。

2.鍍膜材料氣化：通過加熱、電子束轟擊等方式使鍍膜材料變成氣態(tài)原子或分子。

3.沉積：氣態(tài)的鍍膜材料在工件表面凝聚，形成均勻的薄膜。

4.冷卻：將基體和鍍膜材料冷卻至室溫，使薄膜固化

1. 物理氣相沉積（PVD）

①蒸發(fā)鍍膜：利用加熱使鍍膜材料蒸發(fā)，然后在工件表面沉積。

②濺射鍍膜：通過高能離子轟擊鍍膜材料，使其濺射出來并沉積在工件表面。

③離子鍍膜：在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基底上的方法

2. 化學(xué)氣相沉積（CVD）

   利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。通常需要較高的溫度和特定的氣體環(huán)境。

1. 電子工業(yè)

①半導(dǎo)體器件：在芯片制造中，真空鍍膜用于制備導(dǎo)電層、絕緣層等。

②平板顯示器：如液晶顯示器（LCD）和有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）的制造中，真空鍍膜用于制作電極、透明導(dǎo)電膜等。

2. 光學(xué)領(lǐng)域

①眼鏡鏡片：通過真空鍍膜可以增加鏡片的硬度、耐磨性和抗反射性能。

②光學(xué)儀器：如照相機(jī)鏡頭、望遠(yuǎn)鏡等，真空鍍膜可以提高光學(xué)元件的透過率和反射率。

3. 裝飾領(lǐng)域

①珠寶首飾：真空鍍膜可以賦予首飾更加鮮艷的顏色和獨(dú)特的光澤。

②手表：用于制作表盤和表殼的裝飾膜，提高產(chǎn)品的美觀度。

4. 機(jī)械工業(yè)

①刀具涂層：真空鍍膜的硬質(zhì)涂層可以提高刀具的硬度、耐磨性和切削性能。

 ②模具表面處理：增加模具的耐磨性、抗腐蝕性和脫模性能。


 

1.高質(zhì)量的薄膜：

真空環(huán)境下可以避免雜質(zhì)的混入，形成均勻、致密的薄膜，具有良好的性能。

2.廣泛的材料選擇

可以沉積各種金屬、合金、化合物等材料的薄膜。

3.環(huán)保節(jié)能

相比傳統(tǒng)的電鍍等表面處理技術(shù)，真空鍍膜過程中不產(chǎn)生廢水、廢氣等污染物，更加環(huán)保。同時(shí)，由于在真空條件下進(jìn)行，能耗相對(duì)較低。

4.多功能性

可以根據(jù)不同的需求制備具有不同功能的薄膜，如導(dǎo)電、絕緣、耐磨、耐腐蝕、裝飾等。