真空鍍膜技術,作為一門擁有長達兩個世紀歷史的科學,其發(fā)展歷程充滿了探索和創(chuàng)新。在19世紀,這一技術主要處于探索和預研階段,探索者的艱辛在這一期間得到了充分體現(xiàn)。
具體來說,自1805年開始研究接觸角與表面能的關系,科學家們開始探索如何通過改變物體表面的性質來改善其性能。到1817年,他們在透鏡上形成了減反射膜,這一發(fā)現(xiàn)為后來的光學設備的發(fā)展打下了基礎。從1839年開始,他們開始研究電弧蒸發(fā),這是一種通過高溫電弧將金屬蒸發(fā)并在基材上形成薄膜的方法。到1852年,他們開始研究真空濺射鍍膜,這是一種在真空環(huán)境下,利用離子轟擊靶材,使靶材原子或分子脫離并沉積在基材表面的方法。再到1857年,他們在氮氣中蒸發(fā)金屬絲形成薄膜,這一發(fā)現(xiàn)為后來的電子器件的發(fā)展提供了可能。1874年,他們報道了制成等離子體聚合物的研究成果,這一發(fā)現(xiàn)為后來的等離子體技術的應用打開了新的領域。
進入20世紀,尤其是中國在上世紀七八年代開始,真空鍍膜技術逐漸積累了一定的經(jīng)驗和實力。通過國內外的合作交流和自主創(chuàng)新,中國的真空鍍膜技術開始向成熟階段邁進。近年來,據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的數(shù)據(jù),中國真空鍍膜行業(yè)的市場規(guī)模從2017年的256.22億元增長到2023年的558.39億元,年均復合增長率超過13%。這一數(shù)據(jù)顯示,中國的真空鍍膜技術已經(jīng)在市場上取得了顯著的成功。
隨著科技的不斷進步,21世紀的真空鍍膜技術也在不斷發(fā)展和完善。例如,中國科學技術大學的研究團隊利用原子層沉積技術(ALD)在柔性基底上實現(xiàn)了大面積均勻的單分子層薄膜。這一研究成果為真空鍍膜技術在柔性電子、生物醫(yī)學等領域的應用提供了新的可能性。
真空鍍膜技術經(jīng)歷了長期的發(fā)展歷程,從最初的探索和預研到現(xiàn)在的成熟應用,這一技術已經(jīng)在各個領域得到了廣泛的應用和認可。無論是在光學、電子、能源、環(huán)保等領域,真空鍍膜技術都發(fā)揮著重要的作用。未來,隨著科技的進步和市場的需求,真空鍍膜技術將會有更多的發(fā)展空間和應用前景。