隨著新能源產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，復(fù)合銅箔作為一種新型的集流體材料，因其優(yōu)異的性能而備受關(guān)注 ；那么，今天就讓我們一起深入了解復(fù)合銅箔的制造方法。目前市場(chǎng)上復(fù)合銅箔制備方法主要包括一步法，兩步法，三步法。

一.兩步法

磁控濺射：首先，在PET（聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯）、PP（聚丙烯）或PI（聚酰亞胺）等高分子聚合物薄膜表面，通過磁控濺射技術(shù)沉積一層金屬銅膜。磁控濺射是一種物理氣相沉積（PVD）方法，利用高動(dòng)能的荷能粒子轟擊銅靶材，使銅原子獲得足夠能量濺出，并在基膜表面沉積形成一層約15-40nm的金屬銅層。

這一步的目的是使高分子聚合物薄膜表面具有金屬特性，從而具備導(dǎo)電功能。

水電鍍：在磁控濺射形成的金屬銅層基礎(chǔ)上，通過水電鍍技術(shù)將銅層加厚至1μm左右。水電鍍是指將待鍍件接通陰極放入電解質(zhì)溶液（如硫酸銅）中，通過直流電的作用，金屬銅以二價(jià)銅離子的形式進(jìn)入鍍液，并不斷遷移到陰極表面發(fā)生還原反應(yīng)，最終在鍍件上形成金屬銅鍍層。

這一步的目的是使銅層達(dá)到足夠的厚度，以滿足集流體的導(dǎo)電功能。

二. 三步法
三步法是在兩步法的基礎(chǔ)上增加了真空蒸鍍環(huán)節(jié)，具體流程如下：

磁控濺射：與兩步法相同，首先通過磁控濺射技術(shù)在高分子聚合物薄膜表面沉積一層金屬銅膜。

真空蒸鍍：在磁控濺射形成的銅膜基礎(chǔ)上，通過真空蒸鍍技術(shù)進(jìn)一步加速金屬層的沉積。真空蒸鍍是將金屬熔化成液態(tài)，形成金屬蒸汽開始揮發(fā)，然后把蒸汽中的銅原子冷凝在PET表面沉積和成長(zhǎng)。

這一步的目的是提高沉積速度，快速補(bǔ)足銅膜到適合電鍍的厚度。

水電鍍：與兩步法相同，通過水電鍍技術(shù)將銅層加厚至1μm左右

三、一步法

一步法是一種新興的復(fù)合銅箔制造方法，具體分為一步式全濕法和一步式全干法。

一步式全濕法：全濕法是通過對(duì)基膜進(jìn)行清洗、粗化，提升表面粗糙度，然后以化學(xué)沉積的方式（不通電）在薄膜基材表面覆蓋一層均勻的金屬銅層。這種方法省去了水電鍍環(huán)節(jié)，可以解決邊緣效應(yīng)，提升均勻性。

一步式全干法：僅利用磁控濺射或真空蒸鍍方式鍍銅，同樣不通電。一步法自動(dòng)化程度高，可以提升良品率，但沉積的是純銅，純度更高。
 

星海威卷繞鍍膜設(shè)備

星海威卷繞鍍膜設(shè)備采用一步式全干法制備，能夠?qū)崿F(xiàn)在厚度4.0～8.0μm、幅寬500～1650mm的PET/PP等柔性薄膜表面，沉積銅/鋁等金屬膜層；沉積厚度可達(dá)1μm，設(shè)備常用運(yùn)行速度3-50m/min。