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磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)的技術(shù)組成

發(fā)布時間:2024-12-23 作者:星海威

磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)是一種先進的薄膜制備技術(shù),是一個復(fù)雜而精細(xì)的系統(tǒng),各組成部分相互協(xié)作,共同實現(xiàn)高效、高質(zhì)量的薄膜制備。其技術(shù)組成主要包括以下幾個部分:

 一、真空室

真空室是鍍膜過程的主要場所,內(nèi)部設(shè)有基材支架、濺射靶材和磁場發(fā)生裝置等關(guān)鍵組件。真空室的設(shè)計需確保高真空度、耐腐蝕性和易維護性,以提供一個潔凈、穩(wěn)定的鍍膜環(huán)境。

 二、真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)負(fù)責(zé)將真空室內(nèi)抽至所需的工作真空度。它通常包括機械泵、分子泵和真空閥門等組件,通過精確控制真空度,為濺射鍍膜過程提供必要的條件。

 三、濺射系統(tǒng)

濺射系統(tǒng)是實現(xiàn)薄膜沉積的核心部分,包括濺射靶材、直流或射頻電源以及磁場發(fā)生裝置。濺射靶材在電源的作用下產(chǎn)生離子,這些離子在磁場引導(dǎo)下轟擊靶材表面,使靶材原子或分子被濺射出來,并沉積到基材上形成薄膜。磁場發(fā)生裝置產(chǎn)生的強磁場可以控制濺射離子的運動軌跡,從而提高濺射效率和薄膜質(zhì)量。

四、控制系統(tǒng)

控制系統(tǒng)用于監(jiān)控和控制整個鍍膜過程。它采用先進的微處理器技術(shù),實現(xiàn)對溫度、真空度、濺射功率等參數(shù)的精確調(diào)節(jié)。先進的控制系統(tǒng)還可以實現(xiàn)自動化操作,提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

五、輔助系統(tǒng)

輔助系統(tǒng)包括氣體供應(yīng)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)和安全保護系統(tǒng)等。氣體供應(yīng)系統(tǒng)為鍍膜過程提供所需的氣體環(huán)境,冷卻系統(tǒng)用于冷卻濺射靶材和真空室等部件,防止過熱損壞。安全保護系統(tǒng)則確保鍍膜過程的安全進行,如超溫保護、過流保護等。

星海威卷繞鍍膜設(shè)備 

  • 設(shè)備可用于PET、PP等柔性薄膜材料的濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜。

  • 適用于生產(chǎn)鋰電池用的復(fù)合銅箔、復(fù)合鋁箔及金屬化包裝材料,以及反光材料、裝飾材料等產(chǎn)品。

  • 主要應(yīng)用于新能源、新材料、電子工業(yè)、光學(xué)等領(lǐng)域。

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